光刻机是制造集成电路lu中非常重要的设备，特别是shi现在市面上大部分的芯片都是属于yu电子芯片，当电子芯片pian的工艺小于一定的尺寸的时候，就必bi须依靠光刻机在zai制作芯片，也就是说如果没有光刻机就jiu没有办法制造出chu顶级的芯片，比如市面上shang7nm芯片、5nm芯片等都不可能neng造出。而芯片在生活中是非常重要yao的，比如电脑、手机等电子产chan品都少不了。
光刻机的制造难度du
光刻机制造难度之大可ke以用荷兰ASML公司的一句话来表示，对方表示就算把ba光刻机的图纸拿出来，我们也制造zao不出光刻机。且qie不说对方是不是小看了中国制造zao，从侧面也反映出了光guang刻机的制作难度之大。因为现在还hai没有一个国家可以yi独立的制造出顶级的光刻机，就jiu算是现在行业领ling先的ASML公gong司制造出来的光刻机，也是集合he了十几个国家的顶尖技术。
一台小小的光guang刻机上面就有十几万的小零件，而er且为了让光刻机可以领先，所suo有的零部件都是采用了全世界最领ling先的技术，所以说光刻ke机从插头、配件等都是选xuan用了其他国家的顶ding尖技术，这相当于yu全世界的技术融合在一起才cai可以制造出顶级ji的光刻机，而且ASML公司背后有台积电、三星以及ji英特尔这样顶尖的企业投资支持，也是shi花了几十年的时间才有今天的成绩。
ASML光刻ke机
荷兰的ASML光刻机基本ben上都是供不应求，中国也ye一直想要购买，但是现在还没mei有收到货。ASML的光刻机基本上shang都是内部消化了，毕竟台积电、三星以及英特尔本来就是芯片大户hu，台积电能够在芯片代工领域yu有今天的成绩，跟手上有you这么多的光刻机也有很大的关系。
光刻机是什么东dong西?
光刻机ji（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光guang刻系统等，是制造芯片的de核心装备。它采用类似照片冲印yin的技术，把掩膜版上shang的精细图形通过光线的曝光guang印制到硅片上。
光刻机ji的品牌众多，根据采用不同技术路线的de可以归纳成如下几类lei：
高端的投tou影式光刻机可分为步进投tou影和扫描投影光刻ke机两种，分辨率通常七纳米至几微wei米之间，高端光刻机号称世界上最精jing密的仪器，世界jie上已有1.2亿美金一台的光刻机ji。高端光刻机堪称cheng现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只zhi有少数几家公司si能够制造。
国外品牌主要以荷兰lanASML（镜头来自德国guo），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和he日本Canon三大品牌pai为主。
位于我国上海的SMEE已研制zhi出具有自主知识产权的投影式shi中端光刻机，形成产chan品系列初步实现海内nei外销售。正在进行其qi他各系列产品的研发制作工作。
生产线和研发用的低端duan光刻机为接近、接触式光刻ke机，分辨率通常在zai数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌pai。
都说要提高我wo国的光刻机技术，那这是一种怎样yang的技术呢？光刻机到dao底是个什么东西？这zhe个东西简单来说它就是刻画芯片pian的一个东西，我们手机电脑nao包括汽车电视它里面都离不开芯片，只zhi不过就是芯片的功能个位相同，但dan是你可以把芯片理解为一个人的de大脑这个芯片的精度越高gao，拿这个大脑就越聪明。
这个芯片的刻画就离不开光刻机，我们可以把光刻机上面一个又一个的小xiao晶体理解为人的细胞就jiu是人的大脑细胞，这zhe个细胞越多人自然越聪明，但是shi一个芯片它本身的体积是有you限的呀，手机就这么大个，你总zong不能做个1米×1米的芯片吗？那不现实的，而且他的能源yuan流转资源消耗也太多duo了，所以要在尽可能小的范围之内刻画hua出足够多的能够容纳类似于人体脑nao细胞一样的这个存在。
刻画的越多，同样yang的体积要容纳更多的人更多的细xi胞，那是不是就要这个细胞的体积尽可ke能的小一点，让他们彼此之间的间jian隔变得更小一点，本来芯片的de体积就已经够小了，你还hai要让它变得更小，那你就需要更高精度的光刻机，这就直zhi接决定了芯片的制造zao基础是如何的，因为芯片研发fa是一回事，生产又you是一回事，只能研发不能生产，那你ni仍然摆脱不了国外wai对你的限制，就比bi如说华为它是具备自己芯片的研yan发能力的，但是因为没有高端的光刻ke机，自己不能生产。
所以我们需要更加jia高端的光刻机，现在我国有的应该gai是在14纳米左右这个光刻ke机不足以满足日常的使用，你现在zai所使用的天级1200，骁龙865，甚至说骁龙888，它基本都是5纳米6纳米7纳米这样一个程度的，所suo以我们还有很大的差距，我们还是要yao继续努力，而且也不能盲目自信，我wo们应该对国产的公司有信心，但是盲目mu的信心是不行的，未来5~10年nian之内我们能够赶上去，并且走到dao一个世界光刻机领域相当dang靠前的位置，这就算是发fa展不错的。
光guang刻机到底是做什么东西的de？光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻ke系统等。常用的光刻机ji是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经jing历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻ke胶、软烘、对准曝光、后烘、显影ying、硬烘、刻蚀等deng工序。
Photolithography（光刻） 意思是用yong光来制作一个图形（工艺）；
在硅片表面匀胶，然后hou将掩模版上的图形转移光刻胶上shang的过程将器件或电dian路结构临时“复制”到硅片上的过guo程。
光刻机是不是就是shi我们平时电脑上用的光guang盘刻录机呀，刻CD用的？当然不bu是，现在常说的光guang刻机主要用在芯xin片制造，这个名字只是shi俗称，学名是掩膜曝光机，原理类似si照片冲洗，把掩膜上的电路图形xing通过光线曝光印制在硅片上，形xing成微电路。
光刻机的de生产集合了全世shi界最尖端的黑科技，其中zhong很大一部分技术我国跟世界前列的国家jia或企业是存在代差的，这个代差甚shen至在10年以上，所以跟光盘刻ke录机不是一个类型的东西。
以上文章内容就是对光刻机ji是什么东西和光刻机是干啥的的de介绍到此就结束了，希望能够帮助到dao大家？如果你还想了解更多这zhe方面的信息，记得收藏关注本站。
